在對回轉窯所進行的模擬控制操作中，要想對其內部的液霧顆粒相進行操控，我們就必須確定液滴的蒸發速度。
在回轉窯內，液霧一般是身處于流動的狀態中的，并且液滴的四周還屬于強迫對流環境,在此種環境中，液滴周圍的球對稱流將不再存在。為了對回轉窯內的液霧流動進行更加詳細的分析，并清除窯內不同因素內其蒸發率產生的影響，我們在實際的操作中會采用“折算薄膜”的方法來進行分析。在不考慮回轉窯煅燒過程中的蒸發以及煅燒情況下，假設液滴的四周有一恰當厚度的球形氣層，通常被我們稱作駐膜，其內部的球對稱所產生的導熱與物料煅燒時其對流換熱是相等的。然后我們在研究在此駐膜內的球對稱蒸發以及燃燒。采取以上的方法所進行的回轉窯單個液滴的蒸發速率的計算，可以被我們用來計量在此過程中能力以及組分的擴散，從而獲得液滴的蒸發速率的熱工。
在計(ji)量了回(hui)轉(zhuan)窯內液滴的蒸發速率后(hou)，我們就可以(yi)注(zhu)于窯內物料(liao)及其(qi)他(ta)設備的煅燒，并隨時為煅燒過程中出現的不(bu)同問題(ti)進行(xing)記錄，以(yi)后(hou)期(qi)實驗(yan)的進行(xing)做充(chong)分(fen)的準(zhun)備。回(hui)轉(zhuan)窯相關煅燒操作可以(yi)隨時撥打熱線電(dian)話咨(zi)詢(xun)：0371-55018888
